荷電粒子ビーム描画方法

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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-142539
公開番号（公開出願番号）：特開平3-006810
特許番号：特許第2708551号
出願日： 1989年06月05日
公開日（公表日）： 1991年01月14日
請求項（抜粋）：

【請求項1】複数のフィールドよりなる描画領域を有した被描画材料をステージに載せ、このステージをフィールド毎に移動させ、各フィールドの描画を行うようにした荷電粒子ビーム描画方法において、描画領域のフィールドの分割を行うに当って、複数種類の分割態様の分割を行い、複数の分割態様で分割された各フィールド毎にステージを移動させ、各描画パターンを複数回の荷電粒子ビーム照射によって描画を行うと共に、各フィールドのパターン描画を各分割態様毎に行うことなく、一連の描画動作で行い、その際、前記複数の分割態様で分割された全てのフィールドの内、近い座標のフィールド順にステージを移動させる様にしたことを特徴とする荷電粒子ビーム描画方法

IPC (1件)：