特許
J-GLOBAL ID：201103004888612598
高発生量パン形ゲッタ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
倉内 基弘 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-504585
特許番号：特許第2623353号
出願日： 1989年04月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】電子管内に取付けのための蒸発型ゲッタ装置であって、ディスク状底壁と該ディスク状底壁の周辺に沿って形成される垂直側壁を有するパン形容器と、前記側壁及び底壁により形成される空間に圧入される粉末状ゲッタ金属蒸気放出用物質と、ゲッタ装置が管の外側で該ゲッタ装置に対向して配置されるコイルにより発生するRF電場から誘導される電流により加熱されるとき前記ゲッタ金属蒸気放出用物質を通して周囲方向への熱の伝達を遅延させる第1熱伝達遅延手段及び前記ゲッタ金属蒸気放出用物質を通して半径方向への熱の伝達を遅延させる第2熱伝達遅延手段とを備え、その場合前記第1熱伝達遅延手段が側壁及び底壁により形成される空間内に少なくとも部分的に突入するようにディスク状底壁に一体に形成されるかもしくはゲッタ金属蒸気放出用物質の上面に圧入されそして巾より長い長さを有する複数の等間隔の半径方向溝を含み、そして前記第2熱伝達遅延手段が側壁及び底壁により形成される空間内に少なくとも部分的に突入するようにディスク状底壁に一体に形成されるかもしくはゲッタ金属蒸気放出用物質の上面に圧入される少なくとも一つの環状溝を含む蒸発型ゲッタ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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