特許
J-GLOBAL ID：201103005071536268
美容装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
恩田 博宣
, 恩田 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-067290
公開番号（公開出願番号）：特開2011-194175
出願日： 2010年03月24日
公開日（公表日）： 2011年10月06日
要約：
【課題】美容装置において、化粧剤をより確実に皮膚に浸透させることにある。【解決手段】美容装置を使用する際には、超音波ホーン32及びRF電極21,22の下面に肌を接触させる。この状態で、超音波ホーン32を介して超音波が肌に加えられると、一時的に角質中に空洞が形成されるキャビテーション現象が起きる。この空洞を介して肌の表面の化粧剤は、角質の深部、さらには表皮へ浸透する。そして、RF電極21,22を介して高周波電流が表皮に供給されることで、表皮及びそこに存在する化粧剤が加熱される。これにより、化粧剤を皮膚内にて拡散させることができる。このように、単一の美容装置において超音波及び高周波電流を供給可能とすることで、化粧剤の浸透性をより向上させることができる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
皮膚との接触を介して皮膚に電流を供給する複数の電極と、
皮膚に塗布された化粧剤の皮膚への導入を促す剤導入部と、
前記電極及び前記剤導入部への電流の供給を制御する制御装置と、を備えた美容装置。
IPC (4件)：
A45D 44/22
, A61N 1/32
, A61N 1/20
, A61H 23/02
A45D44/22 E
, A61N1/32
, A61N1/20
, A61H23/02 341
, A61H23/02 386
, A61H23/02 360
4C053GG10
, 4C053JJ21
, 4C053JJ32
, 4C053JJ40
, 4C074BB01
, 4C074CC01
, 4C074DD05
, 4C074HH03
