特許

J-GLOBAL ID：201103005388128475

イオン注入装置

発明者： 小西 正志 ,  安東 靖典
出願人/特許権者： 日新イオン機器株式会社
代理人 (1件)： 山本 恵二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-278922
公開番号（公開出願番号）：特開2001-101990
特許番号：特許第4147699号
出願日： 1999年09月30日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】複数のフィラメントを有するイオン源と、このイオン源の各フィラメントに互いに独立してフィラメント電流を流す1以上のフィラメント電源と、イオン注入すべき基板を保持する基板ホルダと、この基板ホルダを前記イオン源から引き出されたイオンビームの照射領域内で往復走査するホルダ走査機構と、前記イオン源から引き出されたイオンビームのビーム電流を前記基板ホルダの走査領域の下流側における複数位置において計測するものであって前記フィラメントの数よりも多い複数のビーム電流計測器と、このビーム電流計測器で計測したビーム電流に基づいて前記フィラメント電源から前記各フィラメントに流すフィラメント電流を制御する装置であって、前記複数のビーム電流計測器で計測した全ビーム電流の平均値を演算して当該平均値が設定値に近づくように前記各フィラメントに流すフィラメント電流を互いにほぼ同じ量だけ増減させる電流値制御ルーチン、および前記複数のビーム電流計測器を前記フィラメントの数にグループ分けし、各グループに対応するフィラメントに流すフィラメント電流を増減させることによってビーム電流の均一性を制御する均一性制御ルーチンを1回以上の所定回繰り返して行う制御装置とを備えるイオン注入装置において、 前記イオン源から引き出されたイオンビームを受けてそのビーム電流を計測するものであって前記基板ホルダの走査領域外に配置されていて走査中の前記基板ホルダによって遮蔽されない非遮蔽ビーム電流計測器を更に備えており、 かつ前記制御装置は、前記基板ホルダの走査開始前に前記電流値制御ルーチンおよび前記均一性制御ルーチンを前記所定回繰り返す走査開始前制御と、前記基板ホルダの走査開始直前の前記非遮蔽ビーム電流計測器による計測値を目標値として記憶し、前記基板ホルダの走査中に、前記非遮蔽ビーム電流計測器による計測値が前記目標値に近づくように前記各フィラメントに流すフィラメント電流を互いにほぼ同じ量だけ増減させる走査時制御とを、前記基板ホルダの1往復走査毎に行うものである、ことを特徴とするイオン注入装置。

IPC (4件)：

H01J 37/317 ( 200 6.01) ,  C23C 14/48 ( 200 6.01) ,  H01J 37/04 ( 200 6.01) ,  H01L 21/265 ( 200 6.01)

FI (4件)：

H01J 37/317 C ,  C23C 14/48 B ,  H01J 37/04 A ,  H01L 21/265 T

引用特許：

出願人引用 (2件)

• イオン注入装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-123973   出願人：日新電機株式会社
• 特開平3-134937