特許
J-GLOBAL ID：201103005734745648

複屈折パターンを有する物品の製造方法及び複屈折パターン作製材料

発明者：
兼岩 秀樹

兼岩 秀樹 について

, 
網盛 一郎

網盛 一郎 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 飯田 敏三 ,  宮前 尚祐
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-179278
公開番号（公開出願番号）：特開2011-033791
出願日： 2009年07月31日
公開日（公表日）： 2011年02月17日
要約：
【課題】コレステリック構造を用いた複屈折パターンを有する物品を、配向、パターニングの工程において効率よく製造する方法を提供する。【解決手段】少なくとも次の[1]〜[3]の工程をこの順に含む、複屈折パターンを有する物品の製造方法: [1]少なくとも1層の光学異方性層を有する複屈折パターン作製材料を製造する工程であって、少なくとも2つの反応性基を有する少なくとも1種の棒状液晶性化合物と少なくとも1種のカイラル剤とを含む組成物を塗布乾燥してコレステリック液晶相を形成した後、加熱または放射線照射を行って、重合固定化した高分子化合物を含んでなる前記光学異方性層を形成する、複屈折パターン作製材料を作製する工程; [2]前記複屈折パターン作製材料にパターン露光を行う工程; [3]前記工程[2]の後に得られる積層体を50°C以上400°C以下でベークする工程。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
少なくとも次の[1]〜[3]の工程をこの順に含む、複屈折パターンを有する物品の製造方法: [1]少なくとも1層の光学異方性層を有する複屈折パターン作製材料を製造する工程であって、少なくとも2つの反応性基を有する少なくとも1種の棒状 液晶性化合物と少なくとも1種のカイラル剤とを含む組成物を塗布乾燥してコレステリック液晶相を形成した後、加熱または放射線照射を行って、重合固定化した高分子化合物を含んでなる前記光学異方性層を形成する、複屈折パターン作製材料を作製する工程; [2]前記複屈折パターン作製材料にパターン露光を行う工程; [3]前記工程[2]の後に得られる積層体を50°C以上400°C以下でベークする工程。
IPC (8件)：
G02B 5/30 ,  B42D 15/10 ,  B32B 9/00 ,  C08K 3/00 ,  C08L 21/00 ,  C08L 83/04 ,  C08G 65/18 ,  C08F 2/50
FI (10件)：
G02B5/30 ,  B42D15/10 501G ,  B42D15/10 501P ,  B42D15/10 501K ,  B32B9/00 Z ,  C08K3/00 ,  C08L21/00 ,  C08L83/04 ,  C08G65/18 ,  C08F2/50
Fターム (68件)：
2C005HA01 ,  2C005HA17 ,  2C005JA12 ,  2C005JA18 ,  2C005JA19 ,  2C005JB08 ,  2C005JB09 ,  2C005KA02 ,  2C005KA37 ,  2C005LA01 ,  2H149AA28 ,  2H149AB26 ,  2H149DA01 ,  2H149DA02 ,  2H149DA12 ,  2H149DB15 ,  2H149DB16 ,  2H149FA03W ,  2H149FA27Y ,  2H149FA33Y ,  2H149FA51Y ,  2H149FA56Y ,  2H149FA58Y ,  2H149FA59Y ,  2H149FD10 ,  2H149FD25 ,  2H149FD28 ,  2H149FD48 ,  4F100AK01C ,  4F100AR00B ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100EC04C ,  4F100EH46B ,  4F100EJ86B ,  4F100GB41 ,  4F100GB90 ,  4F100JN30B ,  4J002AC001 ,  4J002AC011 ,  4J002BB181 ,  4J002CK021 ,  4J002CP031 ,  4J002DE076 ,  4J002DE096 ,  4J002DE146 ,  4J002FD126 ,  4J002FD206 ,  4J002GQ00 ,  4J005AA07 ,  4J005BA00 ,  4J005BB01 ,  4J005BB02 ,  4J011AC04 ,  4J011CA01 ,  4J011CA08 ,  4J011CB00 ,  4J011CC04 ,  4J011CC10 ,  4J011QA03 ,  4J011QA15 ,  4J011QA37 ,  4J011QA48 ,  4J011QB14 ,  4J011QC05 ,  4J011QC07 ,  4J011SA78
引用特許：
出願人引用 (8件)
全件表示
審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM