ジアザ-スピロ〔3,5〕-ノナン誘導体

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：津国肇 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-163570
公開番号（公開出願番号）：特開2000-053679
特許番号：特許第3286268号
出願日： 1999年06月10日
公開日（公表日）： 2000年02月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】一般式I;;化1::(式中、R1は、場合により低級アルキルまたはC(O)O低級アルキルにより置換されているC6-12シクロアルキル、場合により低級アルキルにより置換されているインダン-1-イルまたはインダン-2-イル;アセナフテン-1-イル;ビシクロ〔3.3.1〕ノン-9-イル、オクタヒドロ-インデン-2-イル;2,3-ジヒドロ-1H-フェナレン-1-イル;2,3,3a,4,5,6-ヘキサヒドロ-1H-フェナレン-1-イル、デカヒドロ-アズレン-2-イル;ビシクロ〔6.2.0〕デカ-9-イル;デカヒドロ-ナフタレン-1-イル、デカヒドロ-ナフタレン-2-イル;テトラヒドロ-ナフタレン-1-イル、テトラヒドロ-ナフタレン-2-イルまたは2-オキソ-1,2-ジフェニル-エチルであり;R2およびR2'は、それぞれ水素であるか、または一緒になって酸素原子であり、R3は、水素、1,3-ジオン-イソインドール-2-イル、低級アルコキシ、低級アルキル、アミノ、ベンジルオキシ、-CH2OR5または-CH2N(R5)2であり;R4は、水素または-CH2OR5であり;R5は、水素または低級アルキルであり;;;化2::は、場合により低級アルキル、ハロゲンまたはアルコキシにより置換されているシクロヘキシルまたはフェニルである)で表される化合物、ラセミ混合物もしくはそれらの対応するエナンチオマー又はそれらの薬学的に許容され得る酸付加塩。

IPC (11件)：

C07D 471/10 101 , A61K 31/438 , A61P 3/04 , A61P 9/10 , A61P 25/04 , A61P 25/08 , A61P 25/18 , A61P 25/22 , A61P 25/24 , A61P 25/28 , A61P 25/30

FI (11件)：

C07D 471/10 101 , A61K 31/438 , A61P 3/04 , A61P 9/10 , A61P 25/04 , A61P 25/08 , A61P 25/18 , A61P 25/22 , A61P 25/24 , A61P 25/28 , A61P 25/30

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