特許

J-GLOBAL ID：201103006071030344

酸化チタン系透明導電性基板の製造方法

発明者： 上川 直文 ,  西岡 宏司 ,  菅原 健一朗 ,  中田 邦彦
出願人/特許権者： 住友化学株式会社 ,  国立大学法人 千葉大学
代理人 (1件)： 深井 敏和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-241949
公開番号（公開出願番号）：特開2011-204667
出願日： 2010年10月28日
公開日（公表日）： 2011年10月13日
要約：

【課題】特定の透明導電性膜作製用塗布液を用いて簡便な塗布法にて優れた導電性を有する酸化チタン系透明導電性膜を形成する透明導電性基板の製造方法を提供する。【解決手段】チタン化合物およびニオブ化合物を含有した塗布液を、透明基板上に塗布し、塗布後24時間以内に、還元雰囲気下にて加熱によるアニールを施して、ニオブがドープされた酸化チタンからなる透明導電性膜を透明基板上に形成する酸化チタン系透明導電性基板の製造方法である。前記塗布液はチタン化合物、ニオブ化合物、無機酸、水およびアルコールを含有する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

チタン化合物、ニオブ化合物、無機酸、水およびアルコールを含有した塗布液を、透明基板上に塗布し、塗布後24時間以内に、還元雰囲気下にて加熱によるアニールを施して、ニオブがドープされた酸化チタンからなる透明導電性膜を透明基板上に形成することを特徴とする透明導電性基板の製造方法。

IPC (3件)：

H01B 13/00 ,  H01B 5/14 ,  B32B 9/00

FI (3件)：

H01B13/00 503B ,  H01B5/14 A ,  B32B9/00 A

Fターム (23件)：

4F100AA01A ,  4F100AA21A ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100BA07 ,  4F100EH46A ,  4F100EJ42 ,  4F100GB41 ,  4F100JG01 ,  4F100JG01A ,  4F100JN01 ,  4F100JN01A ,  4F100JN01B ,  4F100YY00 ,  4F100YY00A ,  5G307FB01 ,  5G307FC09 ,  5G307FC10 ,  5G323BA04 ,  5G323BB02 ,  5G323BB06 ,  5G323BC01 ,  5G323BC02