特許
J-GLOBAL ID：201103006227634849
高周波加熱装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (4件)：
高橋 省吾
, 稲葉 忠彦
, 村上 加奈子
, 中鶴 一隆
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-046068
公開番号（公開出願番号）：特開2000-243550
特許番号：特許第3619044号
出願日： 1999年02月24日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】被加熱物を収納する加熱室と、高周波を発振する高周波発振手段と、前記加熱室の下部に設けられ前記高周波発振手段から発振する高周波を前記加熱室下部から伝送する導波管と、前記加熱室と前記導波管の境界に形成された給電口と、前記給電口上部に配設され前記被加熱物を設置する載置手段とを備えた高周波加熱装置において、前記給電口の形状と前記加熱室下部の導波管の形状がともに矩形状もしくは前記給電口の形状と導波管の給電口下方部分の形状をともに円形とし、前記導波管の給電口下方部分内に前記導波管内でかつ前記給電口の下方に前記導波管と電気的に結合し1辺の長さが4分の1波長以上の矩形状の金属片を前記高周波発振手段から発振された高周波の伝搬方向に対して平行な位置に設けたことを特徴とする高周波加熱装置。
IPC (4件)：
H05B 6/72
, F24C 7/02
, H05B 6/70
, H05B 6/74
H05B 6/72 D
, F24C 7/02 501 Z
, F24C 7/02 511 F
, H05B 6/70 E
, H05B 6/74 E
