特許
J-GLOBAL ID：201103006463132790
イオン注入分布の近似方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
眞鍋 潔
, 柏谷 昭司
, 渡邊 弘一
, 伊藤 壽郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-305891
公開番号（公開出願番号）：特開2002-118073
特許番号：特許第4429509号
出願日： 2000年10月05日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 不純物濃度分布関数N(x)を
N(x)={rNa (x)+(1-r)Nc (x)}Φ(0≦r≦1) (1)
Na (x)=Hma(x) (2)
Nc (x)=Hmc(x) (x<xt ) (3)
=κ(Hmc(x)+Htc(x)) (x≧xt ) (4)
Hmc(xt )=κ(Hmc(xt )+Htc(xt )) (5)
式(1)乃至(5)に於いて、
N(x):Na (x)及びNc (x)を綜合した不純物濃度分布関数
r:ドーズレシオ
Na (x):メインパートの分布関数
Nc (x):チャネリングパートの分布関数
Na (x)及びNc (x)の積分値:1
Φ:ドーズ量
x:深さ方向の座標
Hma(x):任意の分布関数(ガウシアン又はピアソンIV又はJointed
half-gaussian)
Hmc(x):Hma(x)と形状が相似の分布関数でHmc(x)∝Hma(x)
Hmc(x)を構成する分布パラメータ:Hma(x)と同一のパラメータ
xt :チャネリングテールの接続点
Htc(x):チャネリングテールの形状を表現する関数
κ:x=xt での接続条件である式(5)を満たす定数
とし、又、チャネリングテール関数Htc(x)を、
Htc(x)=Hmc(xp )exp{-(lnη)((x-xp )/L)A } (10)
式(10)に於いて、A は同じく指数で表されるαに相当
とし、且つ、式(10)に於けるパラメータLとエネルギηとの関係を、
Nc (x+L)=(κ/η)Nc (xp ) (11)
式(10)及び式(11)に於いて、
xp =Rp +a0 (Hma(x)、Hmc(x)がピアソンIVの場合)
xp =Rp (Hma(x)、Hmc(x)がガウシアンの場合)
xp =Rm (Hma(x)、Hmc(x)がJointed half-gauss
ianの場合)
lnη:パラメータηの自然対数
η:式(11)の関係を成り立たせる為に式(10)に導入したパラメータ
L:チャネリングテールの長さを表すパラメータ
α:チャネリングテールの形状を表すパラメータ
a0 :-dRp γ(β+3)/(10β-12γ2 -18)
γ:ピアソンIVに於いてイオン注入分布の左右非対称性を表すパラメータ
β:ピアソンIVに於いてイオン注入分布のピークの鋭さを表すパラメータ
Rp :ガウシアン分布関数、ピアソンIV分布関数に於いて、イオン注入分布の飛程を表
すパラメータ
dRp :ガウシアン分布関数、ピアソンIV分布関数に於いて、Rp 近傍の標準偏差、即
ち、分布の拡がりを表すパラメータ
Rm :Jointed half-gaussian分布関数に於いて、分布のピーク位
置を表すパラメータ
Rm を境界として左右異なる標準偏差(dRpf、dRpb)が適用される
Rm =Rp -(20.5 /π)(dRpb-dRpf)の関係が成立する
dRpf:Jointed half-gaussian分布関数に於いて、Rm より外側
の分布の拡がりを表すパラメータ
dRpb:Jointed half-gaussian分布関数に於いて、Rm より内側
の分布の拡がりを表すパラメータ
としてイオン注入分布形状を近似すること
を特徴とするイオン注入分布の近似方法。
IPC (2件)：
H01L 21/265 ( 200 6.01)
, H01L 21/00 ( 200 6.01)
H01L 21/265 Z
, H01L 21/00
