特許

J-GLOBAL ID：201103006470047030

露光装置

発明者： 森 哲三 ,  坂本 英治 ,  原 真一 ,  宇田 幸二 ,  小澤 邦貴 ,  鵜沢 俊一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-138809
公開番号（公開出願番号）：特開平3-003222
特許番号：特許第2774574号
出願日： 1989年05月30日
公開日（公表日）： 1991年01月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】マスク上のパターンを基板に順次並べて露光転写する露光装置において、前記基板を吸着する吸着面を有する吸着手段と、前記吸着面の複数領域に対応して設けられた複数の流路と、前記複数の流路のそれぞれに流れる温調流体を制御する制御手段とを備え、該制御手段は露光状況に応じて各流路の温調流体の流量を個別に変化させ、非露光時に比べて露光時に前記温調流体の総流量を減少させるように制御を行なうことを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 502 H ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 E

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特公昭40-001128