特許
J-GLOBAL ID：201103006768311791
塗膜及び粒子低減の方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 永坂 友康
, 小林 良博
, 蛯谷 厚志
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-539590
公開番号（公開出願番号）：特表2011-510802
出願日： 2008年12月03日
公開日（公表日）： 2011年04月07日
要約：
本開示は、例えば磁気ハードディスクドライブなどの高純度装置、より具体的には、そのような装置の表面の粒子低減のための塗膜に関する。提供された塗膜は、架橋機能性、及び基板表面にしっかり固着して基板表面からの粒子の飛散を抑制する能力を有する反応懸垂基を含む、薄いポリマー塗膜を含む。フッ素化アクリレートランダムコポリマーを含む基板の少なくとも一部に塗膜を含む基板を提供する。また粒子汚染を低減する方法も提供する。
請求項（抜粋）：
基板上の少なくとも一部に塗膜を含む基板であって、前記塗膜は、次の一般式を有するフッ素化アクリレートランダムコポリマーを含み、
XAwBxCyDzT
式中、
Xは反応開始剤の残渣又は水素であり、
Aは1つ以上の2価のフルオロケミカルアクリレートモノマーから誘導したユニットを表わし、
Bは官能基を持つ1つ以上の2価のアクリレートモノマーから誘導したユニットを表わし、
Cは炭化水素基を持つ1つ以上の2価の非フッ素化アクリレートモノマーから誘導したユニットを表わし、
Dは1つ以上の硬化剤から誘導したユニットを表わし、
Tは官能末端基又は上記で定義したXを表わし、
wは1〜約200の整数であり、
xは1〜約300の整数であり、
yは1〜約100の整数であり、
zは0〜約30の整数であり、
式中、Cはホモポリマーが20°C以下のガラス転移温度を有するモノマーからなる群から選択される、基板。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B05D7/24 302P
, C09D133/16
4D075DA06
, 4D075DC28
, 4D075EB22
, 4J038CG141
, 4J038GA02
, 4J038GA08
, 4J038GA12
, 4J038GA13
, 4J038GA15
, 4J038MA13
, 4J038MA14
, 4J038NA11
, 4J038NA25
, 4J038PB09
