特許
J-GLOBAL ID：201103007114964253
プラズマ溶射装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
三枝 英二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-173008
公開番号（公開出願番号）：特開2001-003151
特許番号：特許第4164610号
出願日： 1999年06月18日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】溶射すべき方向に延びる軸線に沿って溶射用粉末原料を投入する原料投入ノズルと、該軸線の周りに配置されたプラズマ形成手段とを備え、該プラズマ形成手段は、陰極を備えたカソードトーチと、陽極を備えたアノードトーチとのプラズマトーチ対を2以上備え、これらカソードトーチ及びアノードトーチは、これらの陰極及び陽極間に前記軸線に沿うプラズマ流を形成するように該軸線を囲んで且つ相互の位置関係が前記原料投入方向の上流側及び下流側となるように配置されていることを特徴とするプラズマ溶射装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
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