特許
J-GLOBAL ID:201103007399369450

潜伏性触媒の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-048995
公開番号(公開出願番号):特開2000-246113
特許番号:特許第4145408号
出願日: 1999年02月25日
公開日(公表日): 2000年09月12日
請求項(抜粋):
【請求項1】一般式[1]で示されるホスホニウム塩(A)、一般式[2]で示される、分子外に放出しうるプロトンを少なくとも1個分子内に有するn価(nは2以上の整数)のプロトン供与体(B)、および、ホウ酸(C)を溶媒中で反応させることを特徴とする、一般式[3]で表される潜伏性触媒(D)の製造方法。 式中、R1,R2,R3及びR4は、芳香環若しくは複素環を有する有機基又は1価の脂肪族基であり、それらは互いに同一であっても異なっていてもよい。Xは、ハロゲン原子を表す。また、Z1は、置換基Y1,Y2を有する有機基である。Y1,Y2は、1価のプロトン供与性置換基がプロトンを放出してなる基であり、同一分子内の置換基Y1,Y2がホウ素原子と結合してキレート構造を形成しうるものである。
IPC (3件):
B01J 31/24 ( 200 6.01) ,  C08G 59/40 ( 200 6.01) ,  C08G 85/00 ( 200 6.01)
FI (3件):
B01J 31/24 Z ,  C08G 59/40 ,  C08G 85/00

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