プロセス制御装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (8件)：深見久郎 , 森田俊雄 , 堀井豊 , 深見久郎 , 森田俊雄 , 伊藤英彦 , 堀井豊 , 森下八郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-372736
公開番号（公開出願番号）：特開2001-189247
特許番号：特許第4524720号
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
請求項（抜粋）：

【請求項1】複数のロットに区分けされる被処理体(製品)に対して処理を行う処理装置のプロセス制御装置であって、前記処理装置によって処理された製品の処理結果から最新の前記処理装置の能力を評価する処理装置評価手段と、前記処理装置評価手段によって評価された最新の前記処理装置の能力と前記複数のロットの特性とに基づいて、前記処理装置の処理条件を変更せずに、前記処理装置の目標から偏倚する最新の前記処理装置の能力と反対傾向の特性を有する前記ロットを選択するロット選択手段とを備える、プロセス制御装置。

IPC (3件)：