特許
J-GLOBAL ID:201103007573291890

積層インダクタ

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平1-080060
公開番号(公開出願番号):特開平2-260405
特許番号:特許第2694757号
出願日: 1989年03月30日
公開日(公表日): 1990年10月23日
請求項(抜粋):
【請求項1】磁性体層間に端部が接続され、積層方向に重畳して周回する導体パターンを具えた積層インダクタにおいて、積層方向の両端の導体パターンに接し、当該導体パターンの内側に位置する、該磁性体層よりも透磁率の低い材料の層を具えたことを特徴とする積層インダクタ。
IPC (1件):
H01F 17/00
FI (1件):
H01F 17/00 D

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