薄膜形成方法及び装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：阿仁屋節雄 , 油井透 , 清野仁
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-401267
公開番号（公開出願番号）：特開2003-202404
特許番号：特許第3848571号
出願日： 2001年12月28日
公開日（公表日）： 2003年07月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】成膜材料を飛翔させて被成膜体表面に堆積させて薄膜を形成する際に、成膜過程の薄膜を光学式膜厚計で測定し、この光学式膜厚計で時々刻々測定される測定光量があらかじめて求めてある基準光量値に近似もしくは等しくなるように飛翔させる成膜材料の量を制御することにより所望の薄膜を形成する薄膜形成方法において、前記基準光量値として、前記光学式膜厚計を用いて形成目的とする薄膜を試験成膜していくつかの波長に対する前記薄膜の屈折率を求め、これら屈折率から理論的計算によって任意の波長毎に求めた基準光量値を用いることによって、任意の所望波長に対して所望の光学的膜厚を有する薄膜を形成することを特徴とする薄膜形成方法。ただし、A.前記光学式膜厚計は、薄膜が形成された被成膜体に所定の光を照射したときの所定波長の透過光又は反射光の光量が少なくとも前記薄膜の膜厚と屈折率とに依存することを利用し、前記透過光又は反射光の光量を測定することにより前記薄膜の膜厚を測定する光学式膜厚計である。B.前記成膜過程においては、前記被成膜体表面に既に堆積された薄膜の膜厚に依存して変化する前記透過光又は反射光の光量もしくは光量の変化量を前記光学式膜厚計で時々刻々測定する。C.前記基準光量値は、目的とする成膜が行われるときに前記光学式膜厚計で時々刻々測定される光量値又は光量値変化量値のデータの集合である。

IPC (4件)：

G02B 1/11 ( 200 6.01) , G01B 11/06 ( 200 6.01) , C23C 14/54 ( 200 6.01) , G02B 1/10 ( 200 6.01)

FI (5件)：

G02B 1/10 A , G01B 11/06 G , C23C 14/54 C , C23C 14/54 E , G02B 1/10 Z

引用特許：

審査官引用 (1件)

薄膜形成方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-292496 出願人：ホーヤ株式会社

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