特許

J-GLOBAL ID：201103008244531185

超高磁気流体処理装置

発明者： 森 義治
出願人/特許権者： モリオキ産業株式会社
代理人 (1件)： 大塚 茂
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-158973
公開番号（公開出願番号）：特開2000-343086
特許番号：特許第3223450号
出願日： 1999年06月07日
公開日（公表日）： 2000年12月12日
請求項（抜粋）：

【請求項1】流体磁気処理装置を、ケ-シングを仕切り板で仕切って形成される第1、第2、第3処理室、分離槽室及び処理対象の流体(以下処理流体という。)の流路並びに前記ケ-シングの両側面にそれぞれ取り付けられ、第1、第3処理室及び分離槽室を通過する磁力線を発生させる永久磁石を収容した1対の容器(以下磁気ユニットという。)からなる連続処理装置として構成し、第1処理室には、(1)処理流体の導入口と、(2)処理流体の流れに対しほぼ直角に並設された、ル-バ及び格子状に形成した鋼線からなる複数の格子体と、(3)処理流体が第2処理室へ導入される排出口とが配設されており、第2処理室には、(1)その上面に多数孔を穿設して形成された処理流体の流入口と、(2)その底面に形成された、分離槽室へ導入される処理流体の排出口とが配設されており、分離槽室には、(1)前記ケ-シングの底面を被装するように取り付けられた金網と、(2)前記ケ-シングの底面中央部に形成された排出用ドレ-ンと第3処理室へ導入される処理流体の流路とが配設されており、第3処理室には、(1)処理流体の流れに対しほぼ直角に並設された前記ル-バ及び前記複数の格子体と、(2)処理流体の流路と排出口とが配設されていることを特徴とする超高磁気流体処理装置。

IPC (6件)：

C02F 1/48 ,  B01D 21/00 ,  B01D 21/28 ,  B01D 51/00 ,  C02F 5/00 610 ,  C10G 32/02

FI (6件)：

C02F 1/48 A ,  B01D 21/00 B ,  B01D 21/28 Z ,  B01D 51/00 C ,  C02F 5/00 610 A ,  C10G 32/02 B