特許
J-GLOBAL ID:201103008250565687

乾燥ガスに含まれる硫酸飛沫の除去方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-379820
公開番号(公開出願番号):特開2003-181235
特許番号:特許第4055412号
出願日: 2001年12月13日
公開日(公表日): 2003年07月02日
請求項(抜粋):
【請求項1】硫酸飛沫を含む乾燥ガスを、硫酸と反応して硫酸塩を形成しうる基材と接触させて硫酸塩を形成させ、形成された硫酸塩をフィルターで捕集することを特徴とする前記乾燥ガスに含まれる硫酸飛沫の除去方法。
IPC (3件):
B01D 51/00 ( 200 6.01) ,  B01D 46/00 ( 200 6.01) ,  B01D 53/28 ( 200 6.01)
FI (3件):
B01D 51/00 Z ,  B01D 46/00 E ,  B01D 53/28
引用特許:
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る