特許
J-GLOBAL ID:201103008505427976

高周波加熱装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 佐々木 宗治 ,  小林 久夫 ,  木村 三朗 ,  大村 昇
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-331396
公開番号(公開出願番号):特開2001-148285
特許番号:特許第3684500号
出願日: 1999年11月22日
公開日(公表日): 2001年05月29日
請求項(抜粋):
【請求項1】 内部に加熱室を有し、該加熱室の一方の側に高周波発振器を備え、前記加熱室の高周波発振器側の側板の下部に第1の給電口が設けられた本体と、 前記第1の給電口に連通し、前記高周波発振器により発振された高周波を前記加熱室に伝搬する第1の導波管と、 前記加熱室の第1の給電口の上方に設置され、前記加熱室の底板との間に空間部を形成する載置台と、 該載置台に設けられ透過により高周波を加熱室に放射する第2の給電口とを備えてなり、 前記空間部に、前記第1の給電口から第2の給電口まで延出され、前記第1の導波管からの高周波を前記加熱室に伝搬する第2の導波管を構成する周壁を設け、 前記空間部に設けられた第2の導波管を構成する周壁を、載置台と一体に形成し、前記載置台は、前記加熱室から取り外し可能であることを特徴とする高周波加熱装置。
IPC (3件):
H05B 6/70 ,  F24C 7/02 ,  H05B 6/72
FI (4件):
H05B 6/70 E ,  F24C 7/02 511 H ,  F24C 7/02 511 J ,  H05B 6/72 D
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 特開昭58-094792
  • 特開昭53-049251
  • 特開平2-290423
審査官引用 (3件)
  • 特開昭58-094792
  • 特開昭53-049251
  • 特開平2-290423

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