特許

J-GLOBAL ID：201103008621704014

粒子の疎水化処理方法

発明者： 柴田 幸治 ,  神山 幹夫 ,  林 健司 ,  小畑 裕昭 ,  細谷 幸夫
出願人/特許権者： コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-039639
公開番号（公開出願番号）：特開2011-206762
出願日： 2011年02月25日
公開日（公表日）： 2011年10月20日
要約：

【課題】高温反応や有機溶媒を必要とせず無機粒子、有機粒子、無機有機複合粒子等の幅広い材料から構成される粒子に適用できる粒子表面の疎水化処理技術を提供すること。【解決手段】親水性基を有する粒子表面を水系媒体中にて疎水化処理剤によって疎水化する疎水化処理方法において、相間移動触媒の存在下で、該粒子表面の親水性基を疎水化処理剤と反応させる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

親水性基を有する粒子表面を水系媒体中にて疎水化処理剤によって疎水化する疎水化処理方法において、相間移動触媒の存在下で、該粒子表面の親水性基を疎水化処理剤と反応させることを特徴とする粒子の疎水化処理方法。

IPC (5件)：

B01J 19/00 ,  G03G 9/08 ,  G03G 9/087 ,  C01B 13/14 ,  C01B 33/18

FI (7件)：

B01J19/00 N ,  G03G9/08 372 ,  G03G9/08 374 ,  G03G9/08 375 ,  G03G9/08 381 ,  C01B13/14 A ,  C01B33/18 C

Fターム (20件)：

2H005AA08 ,  2H005AB02 ,  2H005CA03 ,  2H005CA26 ,  2H005CA28 ,  2H005CB13 ,  2H005EA05 ,  2H005EA07 ,  4G042DA01 ,  4G042DB27 ,  4G042DC03 ,  4G072AA25 ,  4G072QQ07 ,  4G075AA27 ,  4G075BA10 ,  4G075BB03 ,  4G075BB08 ,  4G075CA54 ,  4G075DA18 ,  4G075FC20