特許
J-GLOBAL ID：201103009361709986
光反応加工方法ならびに光反応加工装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
岡田 和秀
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-330875
公開番号（公開出願番号）：特開2001-147539
特許番号：特許第3427350号
出願日： 1999年11月22日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】非金属材からなる被加工物に対して非熱的な反応を誘起する波長の放射光を照射することにより、照射位置を放射光の光軸方向に沿ってエッチングする光反応加工方法であって、被加工物の加工対象面における所望位置に対して、所望方位から照射時間または照射強度と光束径とを任意に調整した放射光を照射することにより、エッチングの進展方位と深さとを制御する、ことを特徴とする光反応加工方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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