特許

J-GLOBAL ID：201103009439787032

深紫外線フォトレジスト用の反射防止膜用コーティング組成物

発明者： パドナマバン・ムニラツナ ,  ダムメル・ラルフ・アール ,  フィクナー・スタンレイ・エイ ,  オウバーランダー・ジョセフ・イー ,  サガン・ジョン・ピー
出願人/特許権者： AZエレクトロニックマテリアルズ株式会社
代理人 (4件)： 江崎 光史 ,  三原 恒男 ,  奥村 義道 ,  鍛冶澤 實
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-582851
特許番号：特許第4452408号
出願日： 1999年11月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 各々組成物の固体部分に対して、50〜90重量%の割合の以下の構造 [式中、 Xは、CO2、OまたはSO2であり、そしてnは0または1であり、xは整数であり、そしてyは0または整数であり、但しnが0の時は、yは整数であり、 Rは、水素、ハロゲン、ニトロ、アルキル(C1-C4)、アルコキシ(C1-C4)またはエステル(C1-C4)であり、そしてmは1〜4であり、 R1〜R7は、互いに独立して、水素、ハロゲン、アルキル(C1-C4)、脂環式基、アルコキシ(C1-C4)、エステル(C1-C4)、CO2(アルキル)OH、CO2(アルキル)COCH2COCH3であり、ここで更にR7及びR6は一緒になって、飽和した環または無水物を形成する] を有するポリマー、 5〜50重量%の割合の架橋剤、及び 0.1〜5重量%の割合の熱酸発生剤、及び 溶剤、及び場合によっては 低級アルコール、酸、表面平滑化剤、粘着性促進剤、消泡剤、ノボラック、ポリヒドロキシスチレン、ポリメチルメタクリレート及びポリアリレートから選択さされる一種またはそれ以上の成分、 を含み、かつ 反射防止膜に形成した時に、フォトレジストが感度を示す波長において0.3〜0.7の吸光パラメータ(k)を有する、 フォトレジストのための反射防止膜を作るのに有用な組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/11 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (2件)：

G03F 7/11 503 ,  H01L 21/30 574

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 反射防止膜材料用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-208631   出願人：富士写真フイルム株式会社