特許
J-GLOBAL ID：201103009527529310
遷移金属化合物、オレフィン重合用触媒およびそれを用いたポリオレフィンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-032579
公開番号（公開出願番号）：特開2000-230011
特許番号：特許第4161448号
出願日： 1999年02月10日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】下記一般式(1)
(ここで、Mは周期表3、4、5または6族の遷移金属である。L1は下記一般式(2)で示され、A,Bは互いに同じでも異なっていてもよく、周期表15もしくは16族の元素、メチレン基、アルキリデン基またはジアルキリデン基である。L2は下記一般式(3)で示され、L3は下記一般式(4)で示される。L1,L2はL3により架橋されている。Xは互いに同じでも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン、炭素数1〜20の炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基、または炭素数1〜20の炭化水素基もしくはヘテロ原子含有炭化水素基を置換基として有する置換アミノ基もしくは置換アルコキシ基である。
またここで、R1,R2は同じでも異なっていてもよく、水素、炭素数1〜20の炭化水素基もしくはヘテロ原子含有炭化水素基、炭化水素基もしくはヘテロ原子含有炭化水素基を有するシリル基、またはR1およびR2が各々を形成している原子を介して環を形成している。R3は同じでも異なっていてもよく、水素、炭素数1〜20の炭化水素基もしくはヘテロ原子含有炭化水素基、炭化水素基もしくはヘテロ原子含有炭化水素基を有するシリル基、またはR3が自身の原子を介して環を形成している。R4およびR5は同じでも異なっていてもよく、炭素数1〜20の炭化水素基もしくはヘテロ原子含有炭化水素基、炭化水素基もしくはヘテロ原子含有炭化水素基を有するシリル基、またはR4およびR5が各々を形成している原子を介して環を形成している。式中、mは1〜10の整数である。)で表される遷移金属化合物。
IPC (5件)：
C07F 17/00 ( 200 6.01)
, C08F 4/76 ( 200 6.01)
, C08F 4/642 ( 200 6.01)
, C08F 10/00 ( 200 6.01)
, C07F 7/28 ( 200 6.01)
C07F 17/00
, C08F 4/76
, C08F 4/642
, C08F 10/00
, C07F 7/28 F
