特許
J-GLOBAL ID:201103009883235020
低融点ガラス
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
花田 吉秋
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-069580
公開番号(公開出願番号):特開2002-274883
特許番号:特許第4071448号
出願日: 2001年03月13日
公開日(公表日): 2002年09月25日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板表面を直に被覆し、又は基板に配した導電体および/または半導体パターンを被覆するための透明かつ電気絶縁性を有する低融点ガラスであり、該低融点ガラス中にwt%で、B2O3 64〜90、ZnO 5〜15、K2O、Na2O、Li2Oから選ばれる1種以上の一価金属酸化物R2Oを4〜20、SiO20〜8を含むことを特徴とする低融点ガラス。
IPC (3件):
C03C 8/04 ( 200 6.01)
, C03C 3/066 ( 200 6.01)
, G02F 1/1333 ( 200 6.01)
FI (3件):
C03C 8/04
, C03C 3/066
, G02F 1/133 505
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