特許

J-GLOBAL ID：201103010235470399

触媒合金を利用したグラフェンの製造方法

発明者： 禹 輪成 ,  ソ デービッド ,  徐 順愛 ,  鄭 現鍾 ,  姜 セラ ,  許 鎭盛
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (2件)： 渡邊 隆 ,  実広 信哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-216796
公開番号（公開出願番号）：特開2011-102231
出願日： 2010年09月28日
公開日（公表日）： 2011年05月26日
要約：

【課題】触媒合金を利用したグラフェンの製造方法を提供する。【解決手段】基板上にNi含有合金触媒層を形成するステップと、合金触媒層上に炭化水素ガスを供給してグラフェン層を形成するステップと、を含み、Ni含有合金触媒層は、Cu,Pt,Fe,Auのうち少なくとも一つの金属及びNiを含み、グラフェンの製造時、触媒層にNiのカーボン溶解を減少させる触媒金属を共に使用することによって、触媒合金層に溶解されるカーボンの量を調節でき、したがって、均一な単一層のグラフェン層を形成できる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板上に合金触媒層を形成するステップと、 前記合金触媒層上に炭化水素ガスを供給してグラフェン層を形成するステップと、を含む合金触媒層を利用したことを特徴とするグラフェンの製造方法。

IPC (4件)：

C01B 31/04 ,  B01J 23/755 ,  B01J 37/08 ,  B01J 37/02

FI (4件)：

C01B31/04 101Z ,  B01J23/74 321M ,  B01J37/08 ,  B01J37/02 301P

Fターム (34件)：

4G146AA02 ,  4G146AB07 ,  4G146AC16B ,  4G146AD03 ,  4G146BA12 ,  4G146BB22 ,  4G146BB23 ,  4G146BC04 ,  4G146BC33A ,  4G146BC33B ,  4G146BC43 ,  4G146BC44 ,  4G169AA02 ,  4G169AA08 ,  4G169BA02B ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC29A ,  4G169BC31A ,  4G169BC31B ,  4G169BC33A ,  4G169BC66A ,  4G169BC68A ,  4G169BC68B ,  4G169BC75A ,  4G169BD05B ,  4G169CB81 ,  4G169EA08 ,  4G169EB15X ,  4G169FA01 ,  4G169FB02 ,  4G169FB03 ,  4G169FC07 ,  4G169FC08