特許

J-GLOBAL ID：201103010241471887

化学増幅型ポジ型液晶素子用レジスト組成物

発明者： 新田 和行 ,  加藤 哲也 ,  青木 知三郎
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-238039
公開番号（公開出願番号）：特開2003-050460
特許番号：特許第4554122号
出願日： 2001年08月06日
公開日（公表日）： 2003年02月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】次の成分(A)〜(C)、 (A)2.38重量%テトラメチルアンモニムヒドロキシド水溶液に対するアルカリ溶解性が375〜1000Å/秒の範囲であるノボラック樹脂からなるアルカリ可溶性樹脂、 (B)放射線の照射により酸を発生する化合物、及び (C)架橋性ポリビニルエーテル化合物、 を有機溶剤に溶解してなる化学増幅型ポジ型液晶素子用レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R