粒子線照射装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：鈴江武彦 , 村松貞男 , 橋本良郎 , 河野哲 , 中村誠 , 河井将次
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-137350
公開番号（公開出願番号）：特開2000-331799
特許番号：特許第3993338号
出願日： 1999年05月18日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】荷電粒子を生成して予備加速する入射器と、この入射器からの前記荷電粒子を所定の高エネルギーの粒子ビームに加速する加速器と、この加速器で加速された前記荷電粒子を偏向して少なくとも2重の円軌道を描かせる少なくとも2つのワブラー偏向電磁石と、これらワブラー偏向電磁石からの前記粒子ビーム径を拡大して被検体に照射する散乱体と、前記各ワブラー偏向電磁石に流れる各励磁電流の位相差及びその電流量を制御する励磁電流制御手段と、前記被検体の呼吸の動きを検出し、呼気の大きさの推移を呼吸曲線として作成する動き検出手段と、この動き検出手段により検出された前記被検体の前記呼吸曲線に基づき前記被検体の同一位置に前記高エネルギーの前記粒子ビームが照射されるように前記被検体への照射タイミングを制御する照射タイミング制御手段と、を具備し、前記加速器における前記被検体に照射される前記粒子ビームのパルスの周波数は、前記各ワブラー偏向電磁石に供給する前記励磁電流の周波数の3倍以上10倍以下である、ことを特徴とする粒子線照射装置。

IPC (1件)：

H05H 13/04 ( 200 6.01)

FI (2件)：

H05H 13/04 N , H05H 13/04 Q

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開昭63-226371
特開昭63-226371
特開平1-320073

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