特許
J-GLOBAL ID：201103012474488146
電気光学装置及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
上柳 雅誉
, 須澤 修
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-067168
公開番号（公開出願番号）：特開2000-267131
特許番号：特許第3711781号
出願日： 1999年03月12日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】基板に複数のデータ線と、複数の走査線と、前記各データ線と前記各走査線に接続されたトランジスタと、前記トランジスタに接続された画素電極と蓄積容量とを有する電気光学装置であって、前記基板上には少なくとも前記トランジスタのチャネル領域と平面的に重なるように配置された遮光膜と、前記遮光膜上に形成された下地絶縁膜と、該下地絶縁膜上に形成された前記トランジスタのチャネル領域及び前記蓄積容量の第1容量電極となる半導体層と、前記半導体層上に形成されたゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上に形成された前記走査線及び前記蓄積容量の第2容量電極となる容量線と、前記半導体層に接続されるとともに前記第2容量電極上に第1層間絶縁膜を介して対向配置された第3容量電極を含む第1導電層と、前記遮光膜と同一層からなり前記第1容量電極に前記下地絶縁膜を介して対向配置された第4容量電極とを備えており、前記下地絶縁膜は、第1容量電極及び第4容量電極間の少なくとも一部が薄膜化されていることを特徴とする電気光学装置。
IPC (4件)：
G02F 1/1368
, G09F 9/30
, H01L 21/336
, H01L 29/786
G02F 1/1368
, G09F 9/30 338
, H01L 29/78 616 K
