特許

J-GLOBAL ID：201103012513299755

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法

発明者： 土村 智孝
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (18件)： 蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  勝村 紘 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-064982
公開番号（公開出願番号）：特開2011-197464
出願日： 2010年03月19日
公開日（公表日）： 2011年10月06日
要約：

【課題】感度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成することができ、更にPEB温度依存性の抑制された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。【解決手段】アミンオキシド基と光酸発生部位を有する化合物(A)を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

アミンオキシド基と光酸発生部位を有する化合物(A)を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/038

FI (4件)：

G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/038 601

Fターム (66件)：

2H125AE03P ,  2H125AE04P ,  2H125AE05P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF20P ,  2H125AF21P ,  2H125AF27P ,  2H125AF33P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF39P ,  2H125AF41P ,  2H125AF45P ,  2H125AF55P ,  2H125AF70P ,  2H125AH05 ,  2H125AH06 ,  2H125AH12 ,  2H125AH13 ,  2H125AH15 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ04X ,  2H125AJ13X ,  2H125AJ13Y ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ44Y ,  2H125AJ48X ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ55X ,  2H125AJ59X ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ65Y ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM12P ,  2H125AM15P ,  2H125AM16P ,  2H125AM23P ,  2H125AM27P ,  2H125AM32P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125AN57P ,  2H125AN67P ,  2H125AN82P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CB08 ,  2H125CB09 ,  2H125CB12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC01 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125CC17 ,  2H125FA03

引用特許：

出願人引用 (3件)

• レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-285753   出願人：信越化学工業株式会社
• レジスト組成物及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-130001   出願人：信越化学工業株式会社
• パターン形成方法及び被覆膜形成用材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-265115   出願人：東京応化工業株式会社