特許

J-GLOBAL ID：201103012524432821

マイクロメカニカル式の装置のための製造方法

発明者： ヨーゼフ ヒルトライター ,  ベルンハルト エルスナー
出願人/特許権者： ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
代理人 (4件)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  ラインハルト・アインゼル
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-290148
公開番号（公開出願番号）：特開2000-117700
特許番号：特許第4597291号
出願日： 1999年10月12日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板(10)上に存在する装置の部分を固定するための固定領域(132)を基板(10)上に備えたマイクロメカニカル式の装置のための製造方法において、 固定領域(132)を受容するためのベース領域(20)を備えた基板(10)を提供し、 基板(10)上に付着層(30)を形成し、構造化し、それによって付着層(30)の切欠(120)内で、ほぼ島領域の形状の固定領域(132)を、ベース領域(20)内に形成し、この固定領域(132)を、少なくとも1つの薄いウエブ(130)だけによって付着層(30)の残りの部分に接続し、 固定領域(132)とこの固定領域に隣接する成長領域(133)とがマスクキングされないように形成されたマスク(40,50)を付着層(30)上に形成し、 マスキングされない固定領域(132)上にめっき層(35)を析出し、それによってこの固定領域(132)を、この固定領域(132)に隣接する成長領域(133)上で成長させるようにし、 マスク(40,50)及び、付着層(30)の成長しない部分を取り除く、 ことを特徴とする、マイクロメカニカル式の装置のための製造方法。

IPC (3件)：

B81C 1/00 ( 200 6.01) ,  B81B 3/00 ( 200 6.01) ,  G03F 7/26 ( 200 6.01)

FI (3件)：

B81C 1/00 ,  B81B 3/00 ,  G03F 7/26