特許

J-GLOBAL ID：201103012771212214

ウエハーへのレジスト膜形成方法及びウエハーラミネーター

発明者： 河口 裕 ,  豊田 義浩
出願人/特許権者： 株式会社エム・シー・ケー
代理人 (1件)： 石田 喜樹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-338522
公開番号（公開出願番号）：特開2001-155989
特許番号：特許第3232412号
出願日： 1999年11月29日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 ベース層に、レジスト層を重ねてなるレジストフィルムのうち、レジスト層をウエハー形状にカットする切り出し工程と、ウエハー形状に切り出したレジスト層を取り出す取り出し工程と、取り出したウエハー形状のレジスト層とウエハーとを、周辺が合致するように位置決めする位置決め工程と、位置決めしたレジスト層を貼付する貼付工程とを含むことを特徴とするウエハーへのレジスト膜形成方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/16 501

FI (3件)：

G03F 7/004 512 ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/30 564 Z

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 感光層積層方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-140851   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 特開平4-256320