特許
J-GLOBAL ID：201103012885504444

ケイ素系ポリマーの放射線照射によるマイクロセラミックチューブの製造法

発明者：
杉本 雅樹

杉本 雅樹 について

, 
出崎 亮

出崎 亮 について

, 
岡村 清人

岡村 清人 について


出願人/特許権者：
独立行政法人 日本原子力研究開発機構

独立行政法人 日本原子力研究開発機構 について


代理人 (11件)： 社本 一夫 ,  小野 新次郎 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  桜井 周矩 ,  神田 藤博 ,  田中 英夫 ,  細川 伸哉 ,  深澤 憲広 ,  平山 晃二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-276175
公開番号（公開出願番号）：特開2003-082532
特許番号：特許第4659299号
出願日： 2001年09月12日
公開日（公表日）： 2003年03月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 有機ケイ素ポリマー繊維を電離性放射線により表面を酸化し、次いで熱処理して、酸化された部分を架橋して酸化不融化し、有機溶媒により中心部の未架橋部分を抽出して中空のケイ素ポリマー繊維とし、これを不活性ガス中で焼成してセラミック化することによりSiCセラミックチューブを製造する方法。
IPC (5件)：
D01F 9/10 ( 200 6.01) ,  C08J 7/00 ( 200 6.01) ,  D06M 10/00 ( 200 6.01) ,  D06M 11/00 ( 200 6.01) ,  D06M 13/165 ( 200 6.01)
FI (7件)：
D01F 9/10 A ,  C08J 7/00 301 ,  C08J 7/00 302 ,  C08J 7/00 CFH ,  D06M 10/00 J ,  D06M 11/00 ,  D06M 13/165
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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