特許

J-GLOBAL ID：201103012999656511

保護層転写シート

発明者： 富田 賢治 ,  大西 二郎
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (3件)： 特許業務法人 インテクト国際特許事務所 ,  石川 泰男 ,  石橋 良規
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-147924
公開番号（公開出願番号）：特開2011-000865
出願日： 2009年06月22日
公開日（公表日）： 2011年01月06日
要約：

【課題】印画物に確実にセミグロス感を付与するとともに耐久性に優れた保護層転写シートを提供する。【解決手段】基材シート1と転写層11とからなる保護層転写シートであって、転写層は、基材シート側から、保護層2、凹凸層3、ヒートシール層4とがこの順で積層されてなり、凹凸層は、ヒートシール層と接する面に微細凹凸部を有し、被転写体と保護層転写シートとを重ね合わせて被転写体上に転写層を転写した際に、保護層表面に微細凹凸部を発現させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材シートと転写層とからなる保護層転写シートであって、 前記転写層は、基材シート側から、保護層、凹凸層、ヒートシール層とがこの順で積層されてなり、 前記凹凸層は、前記ヒートシール層と接する面に微細凹凸部を有し、 被転写体と保護層転写シートとを重ね合わせて当該被転写体上に前記転写層を転写した際に、前記保護層表面に微細凹凸部が発現することを特徴とする保護層転写シート。

IPC (6件)：

B32B 3/30 ,  B41M 5/26 ,  B41M 5/382 ,  B32B 27/30 ,  B32B 23/08 ,  B44C 1/17

FI (6件)：

B32B3/30 ,  B41M5/26 Z ,  B41M5/26 101Z ,  B32B27/30 A ,  B32B23/08 ,  B44C1/17 A

Fターム (37件)：

2H111AA08 ,  2H111AA27 ,  2H111AA28 ,  2H111AA52 ,  2H111BA08 ,  2H111BA73 ,  3B005EA06 ,  3B005EB01 ,  3B005EC11 ,  3B005FB38 ,  3B005FB58 ,  3B005FC08Z ,  3B005FC12Z ,  3B005GB01 ,  4F100AA04 ,  4F100AA20 ,  4F100AC10 ,  4F100AJ06A ,  4F100AK25A ,  4F100AK41 ,  4F100AK42 ,  4F100AT00D ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100CA13E ,  4F100CA23 ,  4F100DD01A ,  4F100DD07A ,  4F100DD07C ,  4F100EC04E ,  4F100EH46 ,  4F100HB00E ,  4F100HB31E ,  4F100JJ03E ,  4F100JK16E ,  4F100JL12B ,  4F100JL14C