特許
J-GLOBAL ID：201103013121198442
積層光学フィルムの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
藤本 昇
, 薬丸 誠一
, 中谷 寛昭
, 小山 雄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-174235
公開番号（公開出願番号）：特開2011-028039
出願日： 2009年07月27日
公開日（公表日）： 2011年02月10日
要約：
【課題】 連続的な積層光学フィルムの製造方法であって、点状欠陥の発生が抑制された積層光学フィルムを製造できる積層光学フィルムの製造方法を提供することを課題とする。 【解決手段】 長尺状基材フィルムを長手方向に沿って送りつつ、一方の面にラビング処理を施してラビング処理面を形成するラビング処理工程と、送り方向を屈曲させる複数のガイドを用い、ラビング処理工程を経たフィルムを屈曲させて搬送する屈曲搬送工程と、屈曲搬送工程を経たフィルムのラビング処理面に、リオトロピック液晶化合物を含む溶液を塗布することにより光学異方膜を形成する塗布工程とを含み、連続的に積層光学フィルムを製造する積層光学フィルムの製造方法であって、前記屈曲搬送工程では、ラビング処理面側に配されたガイドとして、気体噴射手段を有するガイドを用い、ラビング処理面をガイドに接触させずにフィルムの送り方向を屈曲させることを特徴とする積層光学フィルムの製造方法を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
長尺状基材フィルムを長手方向に沿って送りつつ、一方の面にラビング処理を施してラビング処理面を形成するラビング処理工程と、送り方向を屈曲させる複数のガイドを用い、ラビング処理工程を経たフィルムを屈曲させて搬送する屈曲搬送工程と、屈曲搬送工程を経たフィルムのラビング処理面に、リオトロピック液晶化合物を含む溶液を塗布することにより光学異方膜を形成する塗布工程とを含み、連続的に積層光学フィルムを製造する積層光学フィルムの製造方法であって、
前記屈曲搬送工程では、ラビング処理面側に配されたガイドとして、気体噴射手段を有するガイドを用い、ラビング処理面をガイドに接触させずにフィルムの送り方向を屈曲させることを特徴とする積層光学フィルムの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (20件)：
2H149AA00
, 2H149AB00
, 2H149DA02
, 2H149DA12
, 2H149DB04
, 2H149FA21Y
, 2H149FB05
, 2H191FA22X
, 2H191FA22Z
, 2H191FA30X
, 2H191FA30Z
, 2H191FA94X
, 2H191FA94Z
, 2H191FB05
, 2H191FC13
, 2H191FC37
, 2H191FC41
, 2H191GA08
, 2H191GA22
, 2H191PA87
