特許
J-GLOBAL ID:201103013236478805

層間絶縁膜形成用組成物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 白井 重隆
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-116286
公開番号(公開出願番号):特開2000-303023
特許番号:特許第4344893号
出願日: 1999年04月23日
公開日(公表日): 2000年10月31日
請求項(抜粋):
【請求項1】 溶媒中、下記一般式(I)で表されるオルガノシラン(I)と下記一般式(II)で表されるオルガノシラン(II)との加水分解縮合物の存在下に、下記一般式(I)で表されるオルガノシラン(I)を、加水分解縮合物に用いられるオルガノシラン(I)〜(II)の合計モル数1モルに対し、0.05〜0.5モル、さらに加えて加水分解し、縮合することを特徴とする層間絶縁膜形成用組成物の製造方法。 R1Si(OR2)3・・・・・(I) (式中、R1 はメチル基またはエチル基からなる1価の有機基を示し、R2 は同一または異なり、アルキル基、アリール基またはアシル基を示す。) Si(OR2)4・・・・・(II) (式中、R2は同一または異なり、アルキル基、アリール基またはアシル基を示す。)
IPC (5件):
C09D 183/04 ( 200 6.01) ,  H01L 21/312 ( 200 6.01) ,  C08G 77/44 ( 200 6.01) ,  C08L 83/04 ( 200 6.01) ,  H01B 3/00 ( 200 6.01)
FI (5件):
C09D 183/04 ,  H01L 21/312 C ,  C08G 77/44 ,  C08L 83/04 ,  H01B 3/00 F
引用特許:
審査官引用 (13件)
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