特許

J-GLOBAL ID：201103013536400255

レジスト組成物

発明者： 重松 淳二 ,  市川 幸司
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-100681
公開番号（公開出願番号）：特開2011-232423
出願日： 2010年04月26日
公開日（公表日）： 2011年11月17日
要約：

【課題】優れた解像度及び形状を有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。【解決手段】炭素数が2又は3の環状エーテル構造及び酸に不安定な基を有する化合物に由来する構造単位を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸との作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、式(B1)で表される酸発生剤とを含むレジスト組成物。[Q1及びQ2はフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。X1は単結合又は置換基を有していてもよい2価の炭素数1〜17の飽和炭化水素基を表しす。Y1は炭素数1〜36の脂肪族炭化水素基、炭素数3〜36の飽和環状炭化水素基又は炭素数6〜36の芳香族炭化水素基を表す。Z+は、有機対カチオンを表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

炭素数が2又は3の環状エーテル構造及び酸に不安定な基を有する化合物に由来する構造単位を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸との作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、式(B1)で表される酸発生剤とを含むレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/32

FI (5件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/32

Fターム (45件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AH14 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125AN82P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA03S ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA15R ,  4J100BC04T ,  4J100BC09S ,  4J100BC09T ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100BC54P ,  4J100BC84R ,  4J100BC84T ,  4J100CA03 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38