特許
J-GLOBAL ID：201103014287748749
エマルジョンマスク等の欠陥修正装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邊 敏
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-149253
公開番号（公開出願番号）：特開平3-013946
特許番号：特許第2877841号
出願日： 1989年06月12日
公開日（公表日）： 1991年01月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】紫外光を発生する紫外光発生部と、欠陥部の形状に合わせて紫外光を整形するアパーチャーと、アパーチャー像をエマルジョンマスク等の修正対象物の欠陥部に投影する結像レンズとからなる装置において、紫外光を整形するアパーチャーが、曲線状のパターンの欠陥形状に合わせるための曲率の小さな円弧状の切欠きと、曲率の大きな円弧状の突起とを有するブレードからなることを特徴とするエマルジョンマスク等の欠陥修正装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 V
, H01L 21/30 502 W
