特許
J-GLOBAL ID：201103014293892126
光導波路およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山下 昭彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-318698
公開番号（公開出願番号）：特開2003-121674
特許番号：特許第3786858号
出願日： 2001年10月16日
公開日（公表日）： 2003年04月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板と、前記基板上に形成され、少なくとも光触媒、およびエネルギー照射に伴う前記光触媒の作用により液体との接触角が低下するように濡れ性が変化するバインダからなる光触媒含有層と、前記光触媒含有層上にエネルギーをパターン照射し、前記光触媒含有層上にコア層が形成される親液性領域をパターン状に形成した後、前記光触媒含有層上にコア層形成用塗工液を塗布することによりパターン状に形成されたコア層と、前記コア層を覆うように前記光触媒含有層上に上部クラッド層形成用塗工液を塗布することにより形成された上部クラッド層とを有することを特徴とする光導波路。
IPC (3件)：
G02B 6/122 ( 200 6.01)
, G02B 6/13 ( 200 6.01)
, G02B 6/12 ( 200 6.01)
G02B 6/12 A
, G02B 6/12 M
, G02B 6/12 N
