特許
J-GLOBAL ID：201103014562805227
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩原 康司 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-357885
公開番号（公開出願番号）：特開2001-176779
特許番号：特許第3517171号
出願日： 1999年12月16日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板を処理する装置であって,基板を収納する処理容器内に所定の温度と湿度に調整されたエアを供給するエア供給装置と,温度調整を行う恒温装置と,基板を冷却板に載置して冷却処理する冷却処理装置とを備え,前記エア供給装置に,前記処理容器内にエアを流通させるエア流通経路と,前記エアを冷却減湿する冷却減湿部と,前記冷却減湿部を迂回させて前記エア流通経路にエアを流すバイパス経路と,前記エアを加湿する加湿部とを設け,前記恒温装置に,所定の温度に調整された温調水を流通させる温調水流通経路と,前記温調水を加熱する加熱機構とを設け,前記冷却処理装置に,前記冷却板内に冷媒を流通させる冷媒流通経路を設け,前記冷却減湿部は,前記温調水流通経路内の温調水及び前記冷媒流通経路内の冷媒とを冷却できるように構成されていることを特徴とする,基板処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
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