特許
J-GLOBAL ID:201103014598312642

グアニジン誘導体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 特許業務法人アルガ特許事務所 ,  有賀 三幸 ,  高野 登志雄 ,  中嶋 俊夫 ,  的場 ひろみ
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-006011
公開番号(公開出願番号):特開2000-204072
特許番号:特許第4185201号
出願日: 1999年01月13日
公開日(公表日): 2000年07月25日
請求項(抜粋):
【請求項1】 次式(1) 〔式中、R1はn-テトラデシル基又はn-ヘキサデシル基を示し、R2、R3、R5は水素原子又は-CH2CH(OH)R1(R1は前記と同じ)を示し、R4は-CH2CH(OH)R1(R1は前記と同じ)を示す〕で表されるグアニジン誘導体又はその酸付加塩。
IPC (4件):
C07C 279/08 ( 200 6.01) ,  A61K 8/00 ( 200 6.01) ,  A61K 8/43 ( 200 6.01) ,  A61Q 5/00 ( 200 6.01)
FI (4件):
C07C 279/08 ,  A61K 8/00 ,  A61K 8/43 ,  A61Q 5/00
引用特許:
出願人引用 (6件)
  • 毛髪処理剤組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-174774   出願人:花王株式会社
  • グアニジン誘導体及びその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-188913   出願人:花王株式会社
  • 皮膚化粧料
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-228023   出願人:花王株式会社
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審査官引用 (9件)
  • グアニジン誘導体及びその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-188913   出願人:花王株式会社
  • 毛髪処理剤組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-174774   出願人:花王株式会社
  • 皮膚化粧料
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-228023   出願人:花王株式会社
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