特許

J-GLOBAL ID：201103014693927395

地下構造物構築用土留壁の構造

発明者： 染谷 明 ,  大河 澄男 ,  森本 克秀 ,  大川 俊紀
出願人/特許権者： 株式会社奥村組
代理人 (1件)： 山本 拓也
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-060814
公開番号（公開出願番号）：特開2000-257067
特許番号：特許第4083335号
出願日： 1999年03月08日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 地中に所定幅間隔を存して並行に造成された土留壁の対向内壁面に、該土留壁の上端から下端に達する垂直なリブ部を土留壁の長さ方向に所定間隔毎に突設していると共に、土留壁間の幅方向に対向する各対のリブ部の突出端面に切梁の両端部を係合させる上下方向に連続した垂直ガイド溝を設けていることを特徴とする地下構造物構築用土留壁の構造。

IPC (4件)：

E02D 17/04 ( 200 6.01) ,  E02D 29/045 ( 200 6.01) ,  E21D 13/00 ( 200 6.01) ,  E21D 5/04 ( 200 6.01)

FI (3件)：

E02D 17/04 Z ,  E02D 29/04 Z ,  E21D 5/04

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平4-174123
  
• 特開平4-044519