特許

J-GLOBAL ID：201103014699730925

処理装置

発明者： 西部 幸伸 ,  磯 明典 ,  安藤 佳大
出願人/特許権者： 芝浦メカトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 樋口 正樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-228892
公開番号（公開出願番号）：特開2011-072950
出願日： 2009年09月30日
公開日（公表日）： 2011年04月14日
要約：

【課題】より少ない始動準備時間にて利用することのできる処理装置を提供する。【解決手段】貯液槽11から吐出ヘッドユニット110まで処理液Wが供給され、吐出ヘッドユニット110から吐出される処理液Wにて前記被処理物50の表面を処理する処理装置であって、貯液槽11からの処理液Wが吐出ヘッドユニット110から吐出されるまでの間に、当該処理液W中に微細なバブルを生成するバブル生成機構13、15を有するように構成される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

貯液槽から吐出ヘッドユニットまで処理液が供給され、該吐出ヘッドユニットから吐出される処理液にて前記被処理物の表面を処理する処理装置であって、 前記貯液槽からの処理液が前記吐出ヘッドユニットから吐出されるまでの間に、当該処理液中に微細なバブルを生成するバブル生成機構を有する処理装置。

IPC (5件)：

B08B 3/02 ,  B05B 1/14 ,  B05B 1/02 ,  B08B 3/10 ,  B05C 9/10

FI (5件)：

B08B3/02 A ,  B05B1/14 Z ,  B05B1/02 101 ,  B08B3/10 Z ,  B05C9/10

Fターム (23件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201BB02 ,  3B201BB22 ,  3B201BB33 ,  3B201BB38 ,  3B201BB62 ,  3B201BB88 ,  3B201BB92 ,  3B201CD41 ,  4F033AA04 ,  4F033BA02 ,  4F033DA01 ,  4F033EA06 ,  4F033JA07 ,  4F033NA01 ,  4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042BA12 ,  4F042BA17 ,  4F042CB07 ,  4F042CB27 ,  4F042DA01