特許
J-GLOBAL ID:201103015084798160
透明導電性非晶質膜の製造方法、及び透明導電性非晶質膜
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
棚井 澄雄
, ▲廣▼保 直純
, 荒 則彦
, 加藤 広之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-074897
公開番号(公開出願番号):特開2011-210422
出願日: 2010年03月29日
公開日(公表日): 2011年10月20日
要約:
【課題】高真空容器を使用しない簡便な方法によって透明導電性非晶質膜を製造する方法、および導電性、透明性、及び表面平滑性が従来のスパッタリング法によって得られる膜と同等以上である透明導電性非晶質膜の提供。【解決手段】亜鉛元素および錫元素を含む透明導電性非晶質膜の製造方法であって、加熱した基板に、亜鉛化合物および錫化合物を含有する霧状の溶液又は分散液を吹き付けて成膜することを特徴とする透明導電性非晶質膜の製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
亜鉛元素および錫元素を含む透明導電性非晶質膜の製造方法であって、
加熱した基板に、亜鉛化合物および錫化合物を含有する霧状の溶液又は分散液を吹き付けて成膜することを特徴とする透明導電性非晶質膜の製造方法。
IPC (4件):
H01B 13/00
, H01B 5/14
, B32B 7/02
, C23C 16/30
FI (4件):
H01B13/00 503B
, H01B5/14 A
, B32B7/02 104
, C23C16/30
Fターム (36件):
4F100AB02B
, 4F100AB10B
, 4F100AB12B
, 4F100AB18B
, 4F100AB21B
, 4F100AB22B
, 4F100AB40B
, 4F100AG00
, 4F100AT00A
, 4F100DE01B
, 4F100EH61B
, 4F100EH66
, 4F100EJ42A
, 4F100JA12
, 4F100JG01
, 4F100JG04
, 4F100JM01B
, 4F100JN01
, 4F100YY00B
, 4K030AA03
, 4K030BA16
, 4K030BA21
, 4K030BA35
, 4K030BB05
, 4K030CA05
, 4K030CA06
, 4K030DA09
, 4K030EA01
, 4K030FA10
, 5G307FA01
, 5G307FB01
, 5G307FC10
, 5G323BA03
, 5G323BB03
, 5G323BB06
, 5G323BC01
前のページに戻る