特許

J-GLOBAL ID：201103015084859720

偏光露光装置

発明者： 谷脇 和磨
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
代理人 (1件)： 野田 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-073326
公開番号（公開出願番号）：特開2011-203669
出願日： 2010年03月26日
公開日（公表日）： 2011年10月13日
要約：

【課題】ラビング工程を露光によって行う際のコスト低減とタクトタイムの短縮化とを図ることができる偏光露光装置を提供すること。【解決手段】ロングアーク方式の172nmエキシマUVランプによるUVランプ2を複数本収容したUVランプボックス1の照射窓6に、金属膜スリット7aを複数有するワイヤグリッド偏光子7を設置して、配向膜としての被露光基板5に偏光された紫外線を照射することによって、配向規制力を発現させることを特徴とする。これによって、カラーフィルターの製造ラインでドライ洗浄用として使われているエキシマUVランプを低コストで偏光露光機化することが可能となり、ラビング工程を露光によって行う場合のタクトタイムも短くて済む。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

カラーフィルターの製造プロセスにおける洗浄工程に用いるロングアーク方式の紫外線照射器と、 前記紫外線照射露光器の光源からの紫外線光を偏光させる偏光子と、 前記偏光子により偏光された偏光紫外線光の照射エリアに被露光基板を通過させる基板搬送コンベアと、 を備えることを特徴とする偏光露光装置。

IPC (3件)：

G02F 1/133 ,  G02B 5/30 ,  G03F 7/20

FI (4件)：

G02F1/1337 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1335 505 ,  G03F7/20 502

Fターム (22件)：

2H090HC13 ,  2H090LA09 ,  2H090LA15 ,  2H097AB07 ,  2H097CA13 ,  2H097EA03 ,  2H097LA12 ,  2H149AA21 ,  2H149AB26 ,  2H149BA04 ,  2H149BA23 ,  2H149FD09 ,  2H149FD48 ,  2H191FA02Y ,  2H191FA21X ,  2H191FA21Z ,  2H191FA87Z ,  2H191FC10 ,  2H191FC33 ,  2H191FC34 ,  2H191GA08 ,  2H191LA13