特許
J-GLOBAL ID：201103015133976095
プラズマ処理装置及びそのメンテナンス方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
小川 勝男
, 田中 恭助
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-293002
公開番号（公開出願番号）：特開2002-110638
特許番号：特許第3559760号
出願日： 2000年09月26日
公開日（公表日）： 2002年04月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】内部に処理室が形成された真空容器と,前記処理室内で処理される試料を保持する電極と,前記処理室内にプラズマを発生させるためのプラズマ発生装置と,前記プラズマ発生装置に電力を供給する電力供給部と,前記プラズマ発生装置と電力供給部のそれぞれの中心導体同士および外周導体同士を接続する接続部とを有するプラズマ処理装置において,前記接続部の外周導体の外側に,締結と分割が可能な複数個のユニットを設け、該複数個のユニットを、ヒンジを中心軸とする回転方向に分割した構造とし、前記複数個のユニットを締結機構で締結するようにし、前記複数個のユニット同士を相互に締結して前記のそれぞれの外周導体と接触することで該中心導体および外周導体同士の両方を接続あるいは切断するカップリングユニットを構成し、前記カップリングユニットは前記複数個のユニットを締結機構により締結することで該ユニット相互におよび前記外周導体に対して押圧力をもって接触し,また前記締結機構を解除して前記複数個のユニットを分割することで前記外周導体から離脱するように構成して,前記プラズマ発生装置と前記電力供給部のそれぞれの外周導体同士を接続または分離することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/3065
, H01L 21/205
, H05H 1/46
H01L 21/302 N
, H01L 21/205
, H05H 1/46 C
, H05H 1/46 L
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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