特許
J-GLOBAL ID:201103015718419523
表面処理方法および装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
筒井 大和
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平1-091508
公開番号(公開出願番号):特開平2-270320
特許番号:特許第2846890号
出願日: 1989年04月11日
公開日(公表日): 1990年11月05日
請求項(抜粋):
【請求項1】被処理物を表面処理するためのプラズマを発生させるプラズマ発生源と、試料台と、前記試料台上に設けられ、前記被処理物を静電吸着させるための静電吸着板と、前記被処理物と前記静電吸着板との間に第1の冷媒を流す手段と、前記静電吸着板と前記試料台との間に第2の冷媒を流す手段とを有することを特徴とする表面処理装置。
IPC (2件):
H01L 21/3065
, H01L 21/68
FI (2件):
H01L 21/302 B
, H01L 21/68 R
引用特許:
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