特許
J-GLOBAL ID：201103015870073209
ガス拡散電極の反応層原料の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-024164
特許番号：特許第2990516号
出願日： 1999年02月01日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 界面活性剤を含む水溶液中に疎水性カーボンブラック、親水性微粒子及びポリテトラフルオロエチレンディスパージョンを分散するに際して、該水溶液中で分散した親水性微粒子の平均粒径をrs 、疎水性カーボンブラックの平均粒径をrc 、使用するポリテトラフルオロエチレンディスパージョンの平均粒径をrp とするときに、該水溶液にその平均粒径rc がD=rc /rp で0.5<D<2の範囲になるように疎水性カーボンブラックを混合分散し、かつ平均粒径rs がrs <2rp の親水性微粒子を混合分散し、平均粒径rp のポリテトラフルオロエチレンディスパージョンを混合後、更に、自己組織化剤を添加混合することを特徴とするガス拡散電極の反応層原料の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C25B 11/03
, C25B 11/04 A
