特許
J-GLOBAL ID：201103016117169470
Sn-Bi合金めっき浴、およびこれを使用するめっき方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-034344
公開番号（公開出願番号）：特開2000-234195
特許番号：特許第3298537号
出願日： 1999年02月12日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】Bi3+とSn2+と、下記(a)〜(e)より選ばれた錯化剤(I)と、下記(s)〜(u)より選ばれた錯化剤(II)とを含有し、前記錯化剤(II)と前記Bi3+の濃度比(錯化剤(II)(mol/l)/Bi3+(mol/l))が10以上で、かつ前記錯化剤(II)と前記Sn2+の濃度比(錯化剤(II)(mol/l)/Sn2+(mol/l))が1以上で、かつ前記錯化剤(I)と前記Sn2+の濃度比(錯化剤(I)(mol/l)/Sn2+(mol/l))が0.1以上であり、pHが2.0〜9.0であることを特徴とするSn-Bi合金めっき浴。錯化剤(I)(a)アルキル基の炭素数が1〜3の脂肪族ジカルボン酸、(b)アルキル基の炭素数が1〜3の脂肪族ヒドロキシモノカルボン酸、(c)アルキル基の炭素数が1〜4の脂肪族ヒドロキシポリカルボン酸、(d)単糖類およびその一部が酸化されたポリヒドロキシカルボン酸並びにそれらの環状エステル化合物、(e)縮合リン酸錯化剤(II)(s)エチレンジアミンテトラ酢酸(EDTA)、(t)ニトリロトリ酢酸(NTA)、(u)トランス-1,2-シクロヘキサンジアミンテトラ酢酸(CyDTA)
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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