特許

J-GLOBAL ID：201103016234696510

インプリントシステムおよびインプリント方法

発明者： 福水 裕之 ,  松葉 博
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 日向寺 雅彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-247525
公開番号（公開出願番号）：特開2011-096766
出願日： 2009年10月28日
公開日（公表日）： 2011年05月12日
要約：

【課題】本発明は、転写性を向上させることができるインプリントシステムおよびインプリント方法を提供する。【解決手段】基体の表面に被転写層を形成する形成部と、前記被転写層にパターンを転写するインプリント部と、前記形成部に対して、前記被転写層に対する溶解度が空気よりも低い第1の気体を供給する第1の気体供給部と、前記インプリント部に対して、前記被転写層に対する溶解度が空気よりも高い第2の気体を供給する第2の気体供給部と、前記第1の気体の供給と、前記第2の気体の供給と、を制御する制御部と、を備えることを特徴とするインプリントシステムが提供される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基体の表面に被転写層を形成する形成部と、 前記被転写層にパターンを転写するインプリント部と、 前記形成部に対して、前記被転写層に対する溶解度が空気よりも低い第1の気体を供給する第1の気体供給部と、 前記インプリント部に対して、前記被転写層に対する溶解度が空気よりも高い第2の気体を供給する第2の気体供給部と、 前記第1の気体の供給と、前記第2の気体の供給と、を制御する制御部と、を備えることを特徴とするインプリントシステム。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  B29C 59/02

FI (2件)：

H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z

Fターム (17件)：

4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AM25 ,  4F209AM26 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28 ,  5F046DA26 ,  5F046DA27 ,  5F146AA28 ,  5F146DA26 ,  5F146DA27