特許

J-GLOBAL ID：201103016676097365

反射防止強化ガラスの製造方法

発明者： 長谷川 弘照 ,  橋本 博一
出願人/特許権者： フクビ化学工業株式会社
代理人 (2件)： 小野 尚純 ,  奥貫 佐知子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-241741
公開番号（公開出願番号）：特開2011-088765
出願日： 2009年10月20日
公開日（公表日）： 2011年05月06日
要約：

【課題】反射防止膜を形成した後に、イオン交換法による化学強化処理によってガラスの強化を行う反射防止性強化ガラスの製造方法を提供する。【解決手段】ガラス基板の表面に反射防止膜を形成した後、反射防止膜が形成されたガラス基板について、イオン交換法による化学強化処理を行うことにより、反射防止性強化ガラスを製造する方法において、前記反射防止膜は、 (a)下記式(1): Rn-Si(OR1)4-n (1) 式中、Rは、アルキル基またはアルケニル基であり、 R1は、アルキル基またはアルコキシアルケニル基であり、 nは、0〜2の整数である、 で表されるケイ素化合物の加水分解縮合物、 (b)内部空洞を有する粒径が5〜150nmのシリカゾル、 (c)金属キレート化合物、を含み、前記ケイ素化合物の加水分解縮合物(a)とシリカゾル(b)との重量比(a/b)が50/50乃至90/10の範囲にあり、且つ該ケイ素化合物の加水分解縮合物(a)とシリカゾル(b)との合計量100重量部当り、前記金属キレート化合物(c)を20重量部以下の量で含むことを特徴とする。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ガラス基板の表面に反射防止膜を形成した後、反射防止膜が形成されたガラス基板について、イオン交換法による化学強化処理を行うことにより、反射防止性強化ガラスを製造する方法において、 前記反射防止膜は、 (a)下記式(1): Rn-Si(OR1)4-n (1) 式中、Rは、アルキル基またはアルケニル基であり、 R1は、アルキル基またはアルコキシアルキル基であり、 nは、0〜2の整数である、 で表されるケイ素化合物の加水分解縮合物、 (b)内部空洞を有する粒径が5〜150nmのシリカゾル、 (c)金属キレート化合物、 を含み、前記ケイ素化合物の加水分解縮合物(a)とシリカゾル(b)との重量比(a/b)が50/50乃至90/10の範囲にあり、且つ該ケイ素化合物の加水分解縮合物(a)とシリカゾル(b)との合計量100重量部当り、前記金属キレート化合物(c)を20重量部以下の量で含むことを特徴とする反射防止性強化ガラスの製造方法。

IPC (3件)：

C03C 17/42 ,  C03C 21/00 ,  G02B 1/11

FI (3件)：

C03C17/42 ,  C03C21/00 101 ,  G02B1/10 A

Fターム (17件)：

2K009AA04 ,  2K009BB02 ,  2K009CC09 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD06 ,  2K009EE00 ,  4G059AA01 ,  4G059AB01 ,  4G059AB11 ,  4G059AB17 ,  4G059AC04 ,  4G059AC16 ,  4G059HB03 ,  4G059HB09 ,  4G059HB13 ,  4G059HB14